| | 品牌：Photon etc | | 型号：GRAND-EOS | | 加工定制：否 | |
| | 测量范围：1 | | 测量精度：1 ° | | 外形尺寸：1 mm | |
| | 用途：1 | | 长度：1 mm | | 工作温度：1 ℃ | |
| | 重量：1 ㎏ | | 装箱数：1 | | | |
超高光谱成像仪，波长范围覆盖400-2500nm
型号GRAND-EOS的高光谱成像仪可用于全局成像，结合了高光谱显微镜系统和高光谱宽视场成像平台，可以提供微观模式和宏观模式，波长范围覆盖VNIR（400-1000nm）和SWIR（900-1700nm）。
GRAND-EOS
高光谱成像仪内部集成了S-EOS 1.7，S-EOS 2.5或V-EOS凝视型高光谱相机，自身就是一个小型测试平台。
GRAND-EOS高光谱成像仪是由Photon ect公司研发的一个全局成像的超快高光谱成像仪，它将成像技术与光谱技术相结合，结合了高光谱显微镜系统和高光谱宽视场成像平台，可以提供微观模式和宏观模式，波长范围覆盖VNIR（400-1000nm）和SWIR（900-1700nm）。
由于搭载了Photon ect的专利：布拉格光栅滤光技术，可以筛选光的波段，并且提供高通过量，高效率的非偏振波长的光，利用这个滤光技术，可以大视场成像，对用户想要的任意波长范围进行扫描，利用一个百万像素的传感器，可以获得样品表面数百万个位置点上的光谱信息GRAND-EOS专为反射，透射和发光成像而设计，非常适合基础研究和工业应用。
GRAND-EOS超高光谱成像仪产品规格参数：
| 型号 |
V-EOS |
S-EOS1.7 |
S-EOS 2.5 |
| 光谱范围 |
400 - 1000nm |
900 - 1620 nm |
900 - 2500 nm |
| 光谱分辨（FWHM） |
< 2 nm |
< 4 nm |
< 5 nm |
| 照相机 |
sCMOS |
InGaAs相机
(ZephIR™1.7 or Alizé™1.7) |
MCT 相机
(ZephIR™2.5) |
| 波长绝对精度 |
FWHM/8 |
| 光谱通道 |
连续可调 |
| 入口狭缝尺寸 |
每个波长无狭缝/全视野测量 |
| 曝光控制 |
物理规范™ 软件控制 |
| 标准视场（可定制） |
160毫米x 160毫米，20毫米x 20毫米，可根据要求提供其他视野 |
| 预处理 |
图像稳定，空间滤波，统计工具，光谱提取，数据归一化，光谱校正 |
| 高光谱数据格式 |
HDF5, FITS |
| 软件 |
PHySpec，Windows10-64位 |
| 尺寸 |
150 cm x 85 cm x 82 cm |
| 重量 |
80kg |
| 电源要求 |
120 VAC / 12 A / 60 Hz，230 VAC / 12 A / 50 Hz |
| 可选附件 |
绝对光度校准，激光激发，白光照明，微成像模式：5倍，10倍。 |
GRAND-EOS超高光谱成像仪开启了以下领域的全新可能
-光伏特性
-伪造品检验
-法医研究
-食品和植物分类
GRAND-EOS超高光谱成像仪特点
-光谱通道连续可调
-从400 nm到1620 nm有高灵敏度
-非分散技术
-高性能CCD
-电动对焦
-控制和分析软件
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