德国IKN纳米高剪切胶体磨在制药领域中的应用CMSD2000

纳米高剪切胶体磨在制药领域中的应用适用于中试生产，无jun，无残留，内置高速刮边搅拌机，可采用间歇式/连续式生产方式，生产过程中温度可控，设备效率快，效果好，灵活性高，可根据需求改装成胶体磨、乳化机、分散机、混合机等

德国IKN公司为制药企业量身定做生产的CMSD2000能够很好的满足疫苗生产中对于粒径范围的要求，采用直立式设计，无卫生死角，便于清洁消毒，符合CIP及SIP等GMP管理标准，同时，IKN提供的模块式设计能很好的实现不同制药工艺的要求。 

胶体磨是一种由不锈钢、半不锈钢胶体磨组成，胶体磨的基本原理是流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间，使物料受到强大的剪切力，磨擦力及高频振动等作用，有效地被粉碎、乳化、均质、混合，从而获得满意的经细加工的产品。

普通立式胶体磨zui高转速2930转，粉碎研磨效果较差，适用于制备要求不高，附加值不高，量大的产品，而进口胶体磨转速9000转以上适用于中端产品，附加值相对较高，量大的产品，目前上海依肯胶体磨，设备转速达14000转，zui高可达21000转，广泛活跃在镐端产品市场，其中制药、新材料研发等应用较多。

纳米高剪切胶体磨在制药领域中的应用是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMSD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。