德国IKN分散光催化剂纳米研磨机分解技术CMSD2000

分散光催化剂纳米研磨机分解技术是通过将纳米级二氧化钛材料与超大比表面积及轻质的炭基材，经特殊工艺烧结制备而成，并完成了该材料的量产化，从而彻底解决了传统催化技术效率低下的问题。

纳米光催化剂是污染物的克星，其作用机理简单来说（如下图所示）就是：纳米光催化剂在特定波长的光的照射下受激生成"电子一空穴"对（一种高能粒子），这种"电子一空穴"对和周围的水、氧气发生作用后，就具有了极强的氧化－还原能力，能将空气中甲醛、苯等污染物直接分解成无害无味的物质，以及破坏细菌的细胞壁，杀灭细菌并分解其丝网菌体，从而达到了消除空气污染的目的。　具体来说在光照下，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子（e-）就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴（h+）。光生空穴有很强的氧化能力，光生电子具有很强的还原能力，它们可以迁移到半导体表面的不同位置，与表面吸附的污染物发生氧化还原反应。

IKN高速分散机采用变频调速，各种规格、运转稳定有力，适合各种粘度；液压、机械两种升降形式，升降旋转自如，适应各种位置；普通及防爆配置，安全可靠，操作维护简单；生产连续性强，对物料可进行快速分散和溶解，分散效果好，生产效率高，运转平稳，安装简便。针对不同物料的粘度及处理量有不同的功率及型号。

IKN分散机采取直立式设计，由1-3个工作腔组成，在马达的高速驱动下，物料在转子定子之间狭窄间隙中高速运动，形成紊流，物料受到更强液力剪切、离心挤压、高速切割、撞击和研磨等综合作用，从而达到分散、乳化、破碎的效果。被加工的物料本身和物理性质和工作腔的数量以及控制物料在工作腔中停留的时间决定物料粒径的分布范围及均化、细化的效果和产量大小。

分散机的优势：

结合优良的研磨效果的高吞吐量

定制不同的乳化刀头，实现多种分散乳化剪切速率

为减少颗粒大小的控制，可无限调整定子/转子之间的间隙设置

适合于粘度高达50,000 mPas的各种粘度范围的物料

能在高达16 bar的压力下操作

容易扩大规模生产，从实验室机器开发到工业生产机器

所有接触液体的部件为316L或316Ti不锈钢

具有耐磨材料的高性能机械密封密封

高质量的表面处理，便于清洗

可根据要求提供其他材料和表面处理

机器可自动排水， 具有CIP和SIP功能

噪音低

根据符合EHEDG（欧洲卫生工程设计集团）准则制造

符合3A卫生和认证

根据需要提供制药

根据提供的ATEX 95指导方针执行防爆

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：

1.分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.分散头的剪切速率，（越大效果越好）

3.分散头的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

分散是至少两种不相容液体构成热力学不稳定体系，一种液体以球形单位分散在另一种液体中，所以分散越稳定分散效果越好。