• 依肯IKN复方甘油凝胶注射液研磨均质机18018542795

    详细信息

     型号:18018542795  品牌:依肯IKN  工作方式:高速万能研磨机  
     适用物料:流体浆料  应用领域:医药  加工批量:100  
     驱动功率:11 kw 研磨篮容量:1  介质尺寸:12  
     行程:1  外形尺寸:1 m 重量:260 kg 
     驱动方式:电动  作用对象:锯刀   

    CMSD2000复方甘油注射液研磨均质机,注射液研磨均质机,甘油均质乳化机,凝胶溶酶体系均质胶体磨,无菌级均质机在药品生产中具有重要的意义。例如,将中药材粉碎至适宜粒度,有利于药材中的有效成分的浸出或溶出。又如,制备散剂、颗粒剂、丸剂、片剂等所需的固体原料药均应粉碎至细粉,以利于制备成型。再如,将固体药物粉碎成较小粒径的颗粒,可增大药物的比表面积,促进药物的溶解与吸收,从而提高生物利用度。

     

     

    影响研磨粉碎结果的因素有以下几点:

    1 磨头的剪切速率 (越大,效果越好)

    2 磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

    3 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

    4 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

     

    线速度的计算

    剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

    剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)            g定-转子 间距(m)

     

    由上可知,剪切速率取决于以下因素:

    转子的线速率

    在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。  IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM /60

     

     

    设备的选型要点:

    1、明确使用设备所需达到的效果和目的

    2、详细了解并掌握研究物料的性质(包括物理、化学性质)

    3、根据物料对设备的搅拌机进行选型

    4、再次确定设备的操作参数及结构设计

    5、综合考虑设备的成本

     

     

    研磨均质机采购须知:

    超高速研磨均质机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 湿磨机湿磨是干磨的一种安全而高效的替代方案,基于转子-定子原理。

     

     

    研磨均质机是由胶体磨,均质机组合而成的高科技产品。

     

    **级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

     

     

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

     

     

    CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     

    CMSD2000复方甘油注射液研磨均质机,注射液研磨均质机,甘油均质乳化机,凝胶溶酶体系均质胶体磨,无菌级均质机

     

     

    研磨均质机

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMSD 2000/4

    300

    14,000

    41

    4

    DN25/DN15

    CMSD 2000/5

    1000

    10,500

    41

    11

    DN40/DN32

    CMSD 2000/10

    4000

    7,200

    41

    22

    DN80/DN65

    CMSD 2000/20

    10000

    4,900

    41

    45

    DN80/DN65

    CMSD 2000/30

    20000

    2,850

    41

    90

    DN150/DN125

    CMSD2000/50

    60000

    1,100

    41

    160

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到**允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。

    3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

     

     

    CMSD2000复方甘油注射液研磨均质机,注射液研磨均质机,甘油均质乳化机,凝胶溶酶体系均质胶体磨,无菌级均质机

     

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