• 注射混悬液胶体磨

    详细信息

     品牌:IKN  型号:CM2000  工作方式:颗粒研磨机  
     类型:转轴式研磨机  适用物料:注射混悬液  应用领域:医药  
     加工批量:1000  驱动功率:22 kw 研磨篮容量:1000 L 
     介质尺寸:100 mm 行程:100 mm 外形尺寸:1-1-1 m 
     重量:100    
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    液体药剂中的药物可以是固体、液体或气体,在一定条件下分别以分子或离子、胶粒、颗粒、液滴状态分散于液体分散媒(溶剂,下同)中组成分散体系。如分散相以分

     

    子或离子状态分散于液体分散媒中者称为溶液(真溶液),其中溶质分子量小的称为低分子溶液;溶质分子量大的(如蛋白质类)则称为高分子溶液。胶体溶液除了高分子溶液以外,还包括溶胶,它由多分子聚集体作为分散相的质点,分散在液体分散媒中。如果以固体颗粒或液滴分散于分散媒中,颗粒或液滴与分散媒之间有相界面,前者称为混悬液,后者称为乳浊液。

    根据分散相粒子大小及分散情况的不同,将液体药剂分为溶液型、胶体溶液型、混悬液型、乳浊液型四类。按应用方法,液体药剂可分为内服、外用和注射三大类。包括多种剂型,内服的如合剂、溶液剂等;外用的如洗剂、搽剂、含漱剂、滴鼻剂等等。

    液体药剂中的分散介质统称为分散媒,被分散的药物称为分散相。其中溶液型和胶体溶液型药剂的分散媒亦称为溶剂;乳浊液型药剂的分散媒又称为外相或连续相。

    混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大,微粒与分散介质之间存在着物理界面,使混悬微粒具有较高的表面自由能,混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。

    若要制得沉降缓慢的混悬液,应减少颗粒的大小,增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。实验工作中主要应用前两种手段增加稳定性。怎样减少颗粒的大小,使混悬液的状态更加稳定呢?

    对于混悬液的处理,IKN工程师通常建议选择CMD2000系列研磨分散机,在医药行业通常称为混悬液胶体磨。      李佩佩

    注射混悬液胶体磨(CMD研磨分散机)是由胶体磨+分散机组合而成的高科技产品。*高转速可达14000rpm/min。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。

    CMD2000系列研磨分散机的特点:

    ① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

    ② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

    ③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

    ④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    ⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

    型号

    流量

    L/H

    转速

    rpm

    线速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口连接

    DN

     

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

     

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

     

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

     

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

     

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

     

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

     

    流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

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