• 上海半导体显象管用超纯水设备ZSCK-S3000L

    详细信息

     加工定制:是  型号:ZSCK-S3000L  品牌:致水  
     操作压力:0.2-0.6 Mpa 水电阻率:18.2  出水量:0.25-10T/H  
     外形尺寸:.... cm 电压:380 v 水质:纯水  
     功率:.... w 电导率:0.05  脱盐率:98 % 
     单机出力:0.25-10T /h   
                    半导体显象管用超纯水设备 ZSCK-S
    一、概述
        半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm15MΩ.cm10MΩ.cm2MΩ.cm0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
    二、应用领域
         1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
       2、超纯材料和超纯化学试剂;
       3、实验室和中试车间;
       4、汽车、家电表面抛光处理;
       5、光电产品;
       6、其他高科技精微产品;
    三、工艺流
    1、一级反渗透+混床(出水2---15mΩ.cm
    原水箱—原水泵—多介质过滤器—活性炭过滤器—软水器→保安过滤器→高压泵—反渗透主机→纯水箱—纯水泵→阴阳离子交换混床→微孔过滤器—储水罐→纯水输送泵→用水点
    2、一级反渗透+EDI系统(出水5---15mΩ.cm
    原水箱---原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→高压泵---反渗透主机→纯水箱—EDI系统→储水罐→纯水输送泵→用水点
    3、二级反渗透+EDI系统(出水18mΩ.cm
    原水箱—原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→一级高压泵—一级反渗透主机→PH调节—二级级高压泵—二级反渗透—纯水箱—脱气装置—微孔过滤器→EDI系统→抛光混床系统—储水罐→纯水输送泵→用水点
    四、电子超纯水设备特点
         设备通常由全自动多介质过滤器,全自动活性碳过滤器,全自动软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。   
    温馨提示:水处理设备的要求需要了解几点内容:
    1、纯水的产水量(按每小时计算)
    2、纯水要求的水质(例如多少兆欧)
    3、原水进水水质是什么水(例如自来水,地表水,深井水)
    4、制作纯水的工艺(工艺不一样价格也不一样)
    5、用于生产什么产品
    6、配置的品牌及控制方式(PLC自动控制,手动控制)型号和数量等。

     
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