• 快速退火炉/快速热处理

    详细信息

     加工定制:是  品牌:Annealsys  型号:AS-ONE  
     别名:快速退火炉  适用范围:半导体器件  炉膛最高温度:1500 ℃ 
     工作温度:1500 ℃   
     

    一、设备介绍
    4英寸冷腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)

    (100 mm) 和 6-inch (150 mm) 版本

     

    二、快速退火炉的具体参数

    • 可处理4-inch 和 6-inch 硅片
    • 落地设计,占地面积小
    • 高可靠性,低拥有成本
    • 不锈钢冷腔室壁技术
    • 高工艺复现性
    • 超洁净及无污染环境
    • 高冷却速率,低记忆效应
    • 可提供高真空版本 (10-6 mbar)
    • 高温计和热电偶控制
    • 快速数字PID温度控制器
    • 边缘高温计视口,确保用于化合物半导体和小型样品
    • 基片托的温度控制

     

    四、性能和特征

    • 温度范围: 室温 至 1500°C
    • 升温速率可达200°C/s
    • 特殊配置下冷却速率达 100°C/s
    • 带质量流量控制器的气体混合性能带质量流量控制器的气体混合性能
    • 真空范围: 常压 至 10-6 Torr 


    五、应用

    • 快速热退火
    • 注入退火
    • 欧姆接触退火
    • 快速热氧化
    • 快速热氮化
    • 结晶化致密化
     
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