• 紫外压印 热压印模板 NILT纳米压印掩膜 微加工掩膜

    详细信息

     品牌:NILT  型号:纳米压印掩膜  加工定制:是  
     测量范围:ARSS_B_06  测量精度:纳米 ° 外形尺寸:模板厚度300 µm mm 
     用途:热模压、滚印、注射模塑或紫外压  长度:包括硅、石英、聚合物、镍、PDMS mm 工作温度:- ℃ 
     重量:- ㎏ 装箱数:1   


     丹麦NILT供应各类材质(包括硅、石英、聚合物、镍、PDMS)的纳米压印模板/掩膜标准品。这些纳米压印模板/母膜的制造通常是由热模压、滚印、注射模塑或紫外压印等工艺制成,根据功能的不同。NILT纳米压印掩膜可分为抗反射掩膜,增光掩膜,衍射光栅模板,金属线栅偏光镜标准模板,微针体标准母膜,大面积柱形标准母膜,微图形标准模板 (MICRO),亚微米标准模板等热压印模板,NILT提供大量的微加工掩膜标准品以便快速满足用户的需求。
    型号:ARSS_B_06……
     
    抗反射掩膜,增光掩膜,衍射光栅模板,NILT纳米压印模板、掩膜、标准模板
     
     
    标准压印掩膜(Standard Stamp
     
    NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)
    抗反射膜模板的特点是以大面积为主;适用于可见光范围和近红外范围,反射率可减低到 0.2%
    规格 Type B Type A Type C Type NIR
    模板型号 ARSS_B_06 ARSS_A_02 ARSS_C_02 ARSS_NIR_02
    材质 Nickel Nickel Nickel Nickel
    光栅类型 Hexagonal Array Hexagonal Array Hexagonal Array Hexagonal Array
    Pitch 300 nm 250 nm 250 nm 500 nm
    Average height 300 nm 350 nm 350 nm Larger than 700 nm
    模板厚度 300 µm 300 µm 300 µm 300 ?m
    模板尺寸 70 mm x 70 mm 120 mm x 120 mm 250 mm x 250 mm 100 mm x 100 mm
    有效面积 50 mm x 50 mm 100 mm x 100mm 200 mm x 200 mm 80 mm x 80 mm
    Expected %R PMMA Less than 0.6% Less than 0.2% Less than 0.2% Less than 0.2%
    Less than 0.3%
    Pattern polarity Protrusions Protrusion Protrusions Holes
     
     
    NIL衍射光栅模板 (DIFFRACTION GRATINGS)
    衍射光栅采用镍材质模板,表面纹路分为线状或交叉状两种,平均深度为250nm,线距为500nm。适合用于:LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING,将不同光导入波导WAVEGUIDE,光学分束,镭射感应器,薄膜行业和太阳能光伏等。
    特点:
    纹路形状呈正弦曲线SINUSOIDAL ,纹路的参数也不同
    80 x 80mm有效面积(模板面积为100 x 100mm
    规格:
    规格 Linear Grating Crossed grating
    模板型号 DG_L500 DG_C500
    材质 Nickel Nickel
    Profile shape Sinusoidal Sinusoidal
    Pitch 500 nm 500 nm
    Average depth 250 nm 250 nm
    模板厚度 300 µm 300 µm
    模板尺寸 100 mm x 100 mm 100 mm x 100 mm
    有效面积 80 mm x 80 mm 80 mm x 80 mm
     
    NIL金属线栅偏光镜模板(WIRE GRID POLARIZER)
    一般金属线栅偏光镜制造出来后需要经过一定测试,而NILT通过纳米压印生产出金属线栅偏光镜的标准模板,可避免频繁的测试,免去因测试所造成的成本。标准模板的线呈槽状,槽宽、槽距均为50nm,模板的有效面积可达12 x 12mm, L/S 50nm,模板复制子模适用于UV或热压过程。
    规格:
    规格 Type A Type B
    模板型号 WGPSS_A_V1 WGPSS_B_V1
    模板尺寸 2 inch round wafer with flat 2 inch round wafer with flat
    材质 Silicon Silicon
    有效面积 12 mm x 12 mm 6 mm x 6 mm
    模板厚度 500 µm +/- 25 µm 500 µm +/- 25 µm
    结构类型 50 nm wide grooves with 50 nm spacing 50 nm wide grooves with 50 nm spacing
    横向公差 +/- 10 nm +/- 10 nm
    结构深度 100 nm 100 nm
    垂直公差 +/- 15 nm +/- 15 nm
    缺陷密度 Less than 0.01% of patterned area Less than 0.01% of patterned area
     
    NIL微针体标准模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)
    NILT提供的微针体标准模板的特点是特点:1. 微针呈正方形排列相隔500um; 2. 有效面积达70mm(斜角计)
    微针体模板可经热压或铸造出所需微针形状,可利用模板采用镍片注塑而成。标准模板造出的微针体有足够硬度可用于皮肤的不同测试,医学方面可应用的涂药式微针或注射式微针。
    规格:
    规格 Micro-needle - Type A
    模板型号 MNSS_A_V1
    材质 Silicon
    微针布局 Square array
    微针基本尺寸 100 µm x 100 µm
    微针高度 200 µm (base to tip)
    微针尖端高度 70 µm
    微针尖端曲率半径 ~1 µm
    微针间距 500 µm
    模板尺寸 100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat)
    模板厚度 525 µm (SEMI standard wafer with a flat)
    有效面积 70 mm diagonal square area in the center
     
    NIL精工增光掩膜 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)
    NILT的精工增光掩膜可精准控制增光度,形状可选择直线、椭圆形和圆形,定制性强,面积可达 120x 120mm。它的功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量。例如镭射、LED、LCD的背光源,而同时拥有很高的透光率。
    规格    
    Circular version Type B Type D
    模板型号 EDSS_B_C_V1 EDSS_D_C_V1
    结构类型 Engineered Diffuser Engineered Diffuser
    输出类型 Circular diffusion Ciruclar diffusion
    Diffusion angles (FWHM)* 25° 25°
    材质 Nickel Nickel
    模板厚度 300 µm 300 µm
    模板尺寸 70 mm x 70 mm 120 mm x 120 mm
    有效面积 50 mm x 50 mm 100 mm - 100 mm
     
    NIL大面积柱形标准模板 (LARGE AREA PILLARS)
    大面积柱形标准模板采用光子晶体结构,是以方形排列光子晶体并分布在4个1平方米的格子的硅晶圆上。
    可选4种不同规格的大面积柱形模板,结构尺寸在125 – 275nm之间,
    规格:
    规格  
    模板型号 LAPSS_V1
    模板尺寸 2 inch round wafer
    材质 Silicon
    厚度 525 µm +/- 25 µm
    结构尺寸 125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares)
    Structure pitch 200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm
    Protrusion height 100 nm - 300 nm (you decide!)
    Tolerance, lateral and vertical dimensions +/- 15%
    缺陷密度 Less than 0.1% of total patterned area
     
    NIL亚微米标准模板 (SUB-MICRO)
    亚微米标准模板的图形有3种,包括线(500nm)、柱(1um)、孔(2um),是专门为测试亚微米至纳米级压印而设计的,材料可选择硅或石英,标准尺寸为 20 x 20mm。   
    规格:
    模板型号 MSS_V1
    模板尺寸 20 mm x 20 mm
    材质 Silicon
    厚度 1 mm
    结构尺寸 1 µm - 50 µm
    Etch depth 2 µm, 5 µm or 10 µm
    Pattern field size 4 mm x 4 mm
    交期 3-4 weeks
     
    NIL微图形标准模板 (MICRO)
    微图形标准模板有4种图形,包括直线、横线、柱状和孔状,其尺寸为1um, 5um, 10um, 50um呈现在20mm x 20mm硅晶圆片上。
    规格:
    模板型号 SMSS_SIQZ_V1
    模板尺寸 20 mm x 20 mm
    材质 Silicon or Fused Silica
    厚度 1 mm
    结构尺寸 500 nm - 2 µm
    Etch depth 1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica
    Pattern field size 5 mm x 5 mm
    交期 3-4 weeks
     
    微透镜阵列模板
    NILT提供带凹面或凸面微透镜阵列的纳米压印模板,用于通过热压印或注塑成型生产聚合物微透镜阵列。 材质一般采用熔融石英或镍制成。 NILT可以独立的控制镜头深度、高度和宽度,因此可以在压印模板上制作任何抛物面镜片形状。
    压印模板的直径可达150mm,镜头尺寸从300nm-400μm,还可以提供具有凸透镜和凹透镜阵列的聚合物材质复制品。
    微透镜阵列压印模板
    压印模板尺寸 可达150 mm
    压印模板材质 熔融石英或镍
    微透镜尺寸 300 nm - 400 µm
    SAG 可达 50 µm
    Lens arrangements Hexagonal closed packed
    Square and hexagonal, not closed packed
    Lenticular
     
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