• 氢氧化铝阻燃剂高剪切分散机

    详细信息

     型号:CMD2000  品牌:依肯  工作方式:高速万能研磨机  
     适用物料:化工 化妆品 食品 药品  应用领域:化工 化妆品 食品 药品  加工批量:0-10000  
     驱动功率:2.2-110 kw 重量:55 kg 驱动方式:电机  
     作用对象:铣刀    

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    氢氧化铝作为阻燃剂具有许多独特的优点,且来源丰富,价格低廉,应用范围广,品种多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不对聚合物起增强作用、分解温度低、不适于加工高于200℃的塑料制品的缺点,因此研究其粒度超细化、表面改性处理技术、协同复合技术、纳米技术正成为世界各国研究者的热点问题。

      


    氢氧化铝的超微细化增加了氢氧化铝的表面积,使粒子表面蒸气压降低,明显增强阻燃效果,同时提高材料制品的力学性能和耐热性能。

    然而,要获得超细的氢氧化铝助燃剂混悬液就必须使用高品质的分散设备,传统的分散设备,一方面无法将氢氧化铝浆料进一步细化,另一方分散效果不佳。上海IKN结合多家阻燃剂厂家,可知,采用IKNCMSD2000系列研磨分散机对氢氧化铝浆料进行进一步的研磨和分散,粒径更小,分散更均匀。
     
                

    如有疑问请致电IKN销售工程师,IKN全体员工将竭诚为您服务! IKN主   聂倩文    QQ   ---               

    IKN研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散机,因为氢氧化铝分散到水中或者溶剂当中,会形成二级团聚体,软团聚。需要先将团聚体打开再进行分散。IKN研磨分散机二级工作组,转速高达14000rpm,剪切力强,分散更彻底。


    CMSD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)


    CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。



          
    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出***终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

      

    CMSD2000系列研磨分散机的特点:

    ① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

    ② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

    ③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

    ④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    ⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。


     

    选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器 

     

    研磨分散机

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    1000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    3000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    8000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    20000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    60000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到***大允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

    2 处理量取决于物料的粘度,稠度和***终产品的要求。

    3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

    纳米材料研磨分散机,德国纳米材料研磨分散机

     

    设备特点

    ⑴CMD设备与传统设备相比:

    高效、节能

    传统设备需8小时的分散加工过程,CMD设备1小时左右完成,超细分散效果显著,能耗*降低;

    高速、高品质

    传统设备的搅拌转速每分钟几十转,带分散功能的转速每分钟1500转以内,只完成宏观分散加工,超细分散能力极为有限;ERS设备的转速每分钟10000~15000转之间,超高线速度产生的剪切力,瞬间超细分散浆料中的粉体。

    ⑵CMD设备与同类设备相比:

    多层多向剪切分散

    同类设备的定转子等部件结构单一,多级多层的结构是单纯重复性加工,相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象;

    CMD设备的定转子结构采用多层多向剪切概念,装配式结构使物料得到不同方向剪切分散,杜绝了短路现象,超细分散更为彻底。

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