• 混悬口服液胶体磨,口服液胶体磨

    详细信息

     品牌:IKN  型号:CMS2000  工作方式:离心研磨机  
     类型:转轴式研磨机  适用物料:混悬液  应用领域:医药  
     加工批量:100  驱动功率:11 kw 研磨篮容量:100 L 
     介质尺寸:10 mm 行程:10 mm 外形尺寸:1-1-1 m 
     重量:400    
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    混悬口服液高速胶体磨,德国混悬口服液胶体磨  14000转混悬口服液胶体磨是透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

    混悬口服液胶体磨 混悬剂的质量要求是:药物本身化学性质应稳定,有效期内药物含量符合要求;混悬微粒细微均匀,微粒大小应符合该剂型的要求;微粒沉降缓慢,口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90,沉降后不结块,轻摇后应能迅速分散;混悬剂的粘度应适宜,倾倒时不沾瓶壁;外用混悬剂应易于涂布,不易流散;不得有发霉、酸败、变色、异臭、异物、产生气体或其他变质现象;标签上应注明“用前摇匀”。

     

     混悬剂中的微粒由于受重力作用,静置后会自然沉降,其沉降速度服从Stokes定律:

      按Stokes定律要求,混悬剂中微粒浓度应在2%以下。但实际上常用的混悬剂浓度均在2%以上。此外,在沉降过程中微粒电荷的相互排斥作用,阻碍了微粒沉降,故实际沉降速度要比计算得出的速度小得多。由Stokes定律可见,混悬微粒沉降速度与微粒半径平方、微粒与分散介质密度差成正比,与分散介质的粘度成反比。混悬微粒沉降速度愈大,混悬剂的动力学稳定性就愈小。

      为了使微粒沉降速度减小,增加混悬剂的稳定性,可采用以下措施:①尽可能减小微粒半径,采用适当方法将药物粉碎得愈细愈好。这是*有效的一种方法。②加入高分子助悬剂,既增加了分散介质的粘度,又减少微粒与分散介质之间的密度差,同时助悬剂被吸附于微粒的表面,形成保护膜,增加微粒的亲水性。③混悬剂中加入低分子助悬剂如糖浆、甘油等,减少微粒与分散介质之间的密度差,同时也增加混悬剂的粘度。这些措施可使混悬微粒沉降速度大为降低,有效地增加了混悬剂的稳定性。但混悬剂中的微粒*终总是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,细小微粒沉降速度较慢,更细小的微粒由于布朗运动,可长时间混悬在介质中。

    混悬口服液胶体磨的眼膜效果



     混悬液的主要2个  1个卫生 GMP   2   粉碎的效果   3 一些IQ  OQ PQ文件

     

    影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

     

    2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

    3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

    4  物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

    5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

     

    线速度的计算

    剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

    剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                                g 定-转子 间距 (m)

    由上可知,剪切速率取决于以下因素:

    转子的线速率

    在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
    IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

    设备性能要求:

        1.研磨粒度要求:粒径小于15um以下,目前用于生产混悬口服液,将来也适用于生产混悬注射液。

        2.生产效率:混悬液中都加有助悬剂,溶液为胶体溶液,有一定的粘度。在普通粘度的情况下,生产能力(循环总流量)可以达到1000-1500升/小时左右。

        3.设备的研磨室夹层有冷却系统,工作温度不高于50度。

        4.为卫生级高剪切胶体磨,符合GMP要求。

        5.设备的清洗方便,无残留死角。

         请按上述要求,推荐合适型号的设备

     

    由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

    CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

    电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
    电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    电机选配件: PTC 热保护、降噪型
    研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
    研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
    研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
    进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
    研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

    研磨分散机

    流量*

    输出

    线速度

    功率

    入口/出口连接

    类型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到*大允许量的10%。

    1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

    上海依肯机械有限公司     销售总经理曹小勇欢迎各位来厂考察!

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