• 硅材料冲洗用高纯水设备

    详细信息

     加工定制:是  型号:xc10000  品牌:皙诚  
     操作压力:0.2 Mpa 水电阻率:5-18兆  出水量:0.5-100T/H  
     外形尺寸:/ cm 电压:/ v 水质:优  
     功率:、 w 电导率:10  脱盐率:99.8 % 
     单机出力:0.5-100 /h   
    硅材料冲洗用高纯水设备/高纯水设备的详细描述:
        本公司专业致力于太阳能光伏新材料切削液,线切割加收液,硅化硅,硅片切割液,拉晶等)生产用高纯水设备,去离子水设备的研究及开发,集设计制造,安装于一体的专业化公司,同时,本公司还提供光学材料清洗用水设备,电子陶瓷业用纯水,尖端磁性材料用水设备,有色金属,贵重金属冶炼用水,纳米级新材料用水,航空新材料生产用,ITO导电玻璃制造用水,电子级高纯水/超纯水制取设备/去离子水设备等。联系电话: 。

    单晶硅、多晶硅、太阳能电池用水设备

    典型工艺流程:
    ● 预处理系统-反渗透系统-粗混床-精混床-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
    ● 预处理-反渗透-
    EDI装置-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)
    ● 预处理-一级反渗透-二级反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM) (新工艺)
    ● 预处理-反渗透-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥5MΩ.CM)(新工艺)
    ● 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
    ● 预处理系统-反渗透系统-粗混合床-精密过滤器-用水对象 (≥5MΩ.CM)(传统工艺)

     

    水质标准:


      国家电子级纯水标准

      显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)
      集成电路用纯水水质
      美国SEMI标准
    设备特点:
      为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上,取达到国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统(EDI电除盐系统)等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性
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