• 原子层沉积设备

    详细信息

     加工定制:是  品牌:cambridge nano tech  型号:Savannah G2  
     功率:1.5 kw 额定温度:350℃-400℃ ℃ 主要用途:提高器件性能  
     基片尺寸:100mm/200m/300mm    
    Savannah 系列
    ALD设备
    原子层沉积系统ALD
     
    基本性能
    可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm
    标准腔室温度:350℃
    占地面积小
    标配2个气源,可选配6个气源
    性能可扩展,灵活性高
    设备设计精简
    设备内整合了蒸气阱
    可选配多种性能
    Savannah G2 ALD设备优势
    快速ALD工艺处理 (2秒处理AL2O3)
    增强版气源 & 气体传送
    设备控制系统性能高
    新型软件结构
    在线椭圆测量
    整合了在线石英晶体微量天秤
    低压沉积性能高
    批量处理不同气源
    高温手套箱解决方案
    粒子沉积系统
    可选等离子增强ALD性能
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