• Cambridge 原子层沉积设备

    详细信息

     加工定制:是  品牌:Cambridge  型号:Savannah系列  
     功率:0.3 kw 额定温度:350℃-400℃ ℃ 主要用途:真空镀膜  
     基片尺寸:100mm/200mm/300mm  基片加热温度:400℃/359℃/350℃   
    Savannah 系列
    美国Cambridge 设备
    ALD设备
    原子层沉积系统ALD
    基本性能
     
    ALD设备
    可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm
    标准腔室温度:400℃/350℃/350℃
    占地面积小
    标配2个气源,可选配6个气源
    性能可扩展,灵活性高
    设备设计精简

    设备内整合了蒸气阱
    快速ALD工艺处理 (2秒处理AL2O3)
    批量处理
  • 留言

    询价产品:
    *(必填)
    联系人: *(必填)
    手    机: *(必填)
    电    话:
    E-mail:
    公    司: *(必填)
    地    址:
  • 供应商的其他相关信息

    查看更多
    内容声明:谷瀑环保为第三方交易平台及互联网信息服务提供者,谷瀑环保(含网站、客户端等)所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布,其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑环保提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实,如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的,请在购买前通过谷瀑环保与店铺经营者沟通确认;谷瀑环保设备网上存在海量店铺,如您发现店铺内有任何违法/侵权信息,请立即向谷瀑环保举报并提供有效线索。